濺射靶材（關(guān)于濺射靶材的簡(jiǎn)介）

2022-07-31 13:30:58 編輯：池梅萍來(lái)源：

導(dǎo)讀大家好，濺射靶材，關(guān)于濺射靶材的簡(jiǎn)介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來(lái)看看吧！1、磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition

大家好，濺射靶材，關(guān)于濺射靶材的簡(jiǎn)介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來(lái)看看吧！

1、磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。

2、一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。

3、上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。

4、因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。

5、磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。

本文關(guān)于濺射靶材的簡(jiǎn)介就講解完畢，希望對(duì)大家有所幫助。

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