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我國(guó)在半導(dǎo)體科技方面被國(guó)際力量層層加碼限制仍然取得了突破性的進(jìn)展,在去年國(guó)慶節(jié)之后美國(guó)對(duì)于高端的3D NAND芯片和DRAM芯片的控制力度進(jìn)一步加強(qiáng),在上個(gè)月荷蘭還宣布對(duì)深紫外光刻機(jī)等半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口進(jìn)行管制,日本也新增加了23種對(duì)于出口設(shè)備的管制,這也表示國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體公司發(fā)展在未來(lái)充滿艱難。
資本市場(chǎng)的狂歡
半導(dǎo)體設(shè)備的投資也引起了股票方面的劇烈變化,國(guó)內(nèi)生產(chǎn)刻蝕設(shè)備的中微公司在一天之內(nèi)股價(jià)上漲幅度就達(dá)到12%,去年的營(yíng)業(yè)收入和歸母凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)分別達(dá)到52%和16%,光馳半導(dǎo)體的半導(dǎo)體原子層鍍膜和刻蝕設(shè)備項(xiàng)目在一期也已經(jīng)封頂,預(yù)計(jì)建成之后產(chǎn)能接近5臺(tái)刻蝕機(jī),這也表示我國(guó)的半導(dǎo)體設(shè)備公司目前已經(jīng)具備了一定的競(jìng)爭(zhēng)力,然而和世界市場(chǎng)相比,現(xiàn)在占有的份額仍然不算多。
做好選擇很重要
光刻和蝕刻是集成電路的生產(chǎn)過(guò)程中使用范圍最廣泛、重復(fù)性最多的工藝,而且刻蝕機(jī)在生產(chǎn)線當(dāng)中占據(jù)著很大的成本比重,經(jīng)歷2019年的行業(yè)需求萎縮之后,現(xiàn)在這一領(lǐng)域的需求又出現(xiàn)了周期性的增長(zhǎng),對(duì)于電子產(chǎn)品的需求進(jìn)一步升高也表示著這一行業(yè)又出現(xiàn)了新的競(jìng)爭(zhēng)點(diǎn),預(yù)計(jì)未來(lái)三年中刻蝕設(shè)備的整體增長(zhǎng)速度都會(huì)處于比較高的水平,蝕刻機(jī)的生產(chǎn)技術(shù)比較復(fù)雜,生產(chǎn)門檻也比較高,做出合適的選擇至關(guān)重要,現(xiàn)在先進(jìn)的工藝芯片受到波長(zhǎng)的限制,這也表示生產(chǎn)過(guò)程中要用到多重模板工藝,對(duì)于生產(chǎn)車間的要求也是更高的挑戰(zhàn),還要進(jìn)一步提升相關(guān)設(shè)備的生產(chǎn)水平,這也是一大挑戰(zhàn)。
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