光刻工藝（關于光刻工藝的簡介）

2022-09-05 12:06:45 編輯：廣辰武來源：

導讀大家好，光刻工藝，關于光刻工藝的簡介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來看看吧！1、光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓表面

大家好，光刻工藝，關于光刻工藝的簡介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來看看吧！

1、光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。

2、晶圓表面會留下帶有微圖形結構的薄膜。

3、通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。

4、光刻膠涂復后，在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。

5、光刻過程中的錯誤可造成圖形歪曲或套準不好，最終可轉化為對器件的電特性產(chǎn)生影響。

6、光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。

7、是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。

本文關于光刻工藝的簡介就講解完畢，希望對大家有所幫助。

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