光刻工藝（關(guān)于光刻工藝的簡介）

2022-09-05 12:06:45 編輯：廣辰武來源：

導(dǎo)讀大家好，光刻工藝，關(guān)于光刻工藝的簡介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來看看吧！1、光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓表面

大家好，光刻工藝，關(guān)于光刻工藝的簡介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來看看吧！

1、光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝。

2、晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。

3、通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留的是特征圖形部分。

4、光刻膠涂復(fù)后，在硅片邊緣的正反兩面都會(huì)有光刻膠的堆積。

5、光刻過程中的錯(cuò)誤可造成圖形歪曲或套準(zhǔn)不好，最終可轉(zhuǎn)化為對器件的電特性產(chǎn)生影響。

6、光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。

7、是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。

本文關(guān)于光刻工藝的簡介就講解完畢，希望對大家有所幫助。

標(biāo)簽：

免責(zé)聲明：本文由用戶上傳，如有侵權(quán)請聯(lián)系刪除！

本站除標(biāo)明“本站原創(chuàng)”外所有信息均轉(zhuǎn)載自互聯(lián)網(wǎng) 版權(quán)歸原作者所有。

郵箱：toplearningteam#gmail.com (請將#換成@)